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產品名稱：無掩膜激光直寫系統
品牌：NSS (Nano System Solutions)
型號：DL-1000i
關鍵詞：激光直寫，無掩膜曝光，無掩膜光刻
一、簡介
DL-series無掩膜激光直寫系統采用作為空間光調制器之一的數字微鏡裝置（Digital Micromirror Device：DMD）作為曝光圖案生成器，這是一種將DMD上放映的圖案數據縮小投影到光刻膠上的數字曝光裝置。因為可以直接曝光在電腦上制作的曝光數據，所以可以自由地創建曝光模式。
二、技術規格
分辨率：0.5um分辨率（1um或2um分辨率可供選擇）
樣品尺寸：支持300mm*300mm(可向下兼容)
激光波長：365nm LED & 375nm LD
可用于3D結構設計
| Model | DL-1000i | |||
| Application | For R&D | For R&D, High TP | ||
| Substrate size/ Exp.area | Size: ＜100mm ,＜200mm, ＜300mm, Thickness: 0.05mm-7mm | |||
| Wavelength | 365nm LED | 375nm LD | ||
| Minimum structure size | ＜0.5um | ＜1 um | ＜0.5um | ＜1 um |
| Writing speed（mm2 / min） | ＞200 | ＞500 | ＞400 | ＞1800 |
三、應用
應用于晶圓PVD和CVD各類鍍膜應力和Bow測試。
光電半導體器件的開發
通信設備的開發
光固化材料的開發
生物，生命科學，復雜化學（微TAS，微流控技術）
局部曝光和選擇性曝光
